半導(dǎo)體制造要求始終控制液體在工藝工具中的流動(dòng)，其中一個(gè)嚴(yán)格的應(yīng)用是化學(xué)機(jī)械平整化。(CMP)。當(dāng)CMP工具無法將一致的漿料速度分配到拋光基材上時(shí)，會(huì)對(duì)產(chǎn)量、化學(xué)品的使用和材料的完整性產(chǎn)生很大的負(fù)面影響。晶圓厚度的變化，缺陷密度的增加，工具停機(jī)時(shí)間和晶圓廢料的增加，只是過程控制不良可能導(dǎo)致的一些問題。

　　蠕動(dòng)泵非常適合半導(dǎo)體行業(yè)的高純度和腐蝕性化學(xué)環(huán)境。對(duì)于CMP來說，在拋光過程中，為CMP提供了良好的線性和可重復(fù)性。低剪切力適用于CMP漿料，其變速操作允許在較寬的操作范圍內(nèi)控制流量或壓力，以保持過程的完整性。

　　漿料的性能可以實(shí)現(xiàn)優(yōu)異的晶圓平面度，泵可以通過控制漿料的輸送和分配來幫助實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)。泵的非侵入式設(shè)計(jì)提供了一條沒有死流區(qū)域的直流路徑，使?jié){料凝結(jié)、硬化和污染。流速到達(dá)±0.5%。提供穩(wěn)定的流體輸送不僅可以保證漿料不斷流向拋光墊，還可以減少漿料、化學(xué)物質(zhì)和去離子水的浪費(fèi)。